铜化学机械抛光中复合缓蚀剂的作用机制

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将复合缓蚀剂（苯并三氮唑（BTAH）和十二烷基磺酸钠（SDS））应用到铜的化学机械抛光液中，考察BTAH和SDS对铜表面化学机械抛光的影响，并探讨BTAH和SDS在铜表面的作用机制；分析BTAH和SDS抛光液中络合剂和表面活性剂对铜化学机械抛光性能的影响。结果表明：BTAH和SDS在铜表面形成了致密的Cu．BTAH和Cu．SDS保护膜，是优良的铜缓蚀剂。当以磷酸氢二胺（AHP）为络合剂，羟乙基纤维素（HEC）为表面活性剂时，优化后的BTAH和SDS抛光液取得了低至RaO．2nm的表面粗糙度，同时发现HEC有降低纳米颗粒残留的作用。